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B 支持膜 产品展示
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（阵列孔薄膜），3mm直径的外框架(其厚200um)，内有0.5*0.5mm大小的窗口！我们使用先进的MEMS技术，生产出的多孔氮化硅膜（微阵列孔膜），膜厚度200 nm，多孔膜区域达0.45*0.45mm大小，膜耐酸、碱和溶剂，耐受高温实验(高达1000°C)。
超薄连续碳膜
超薄连续碳膜
没有方华膜（Formvar）支撑，在蕾丝碳膜上镀一层更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄纯碳支持膜
GIG纯碳阵列微栅膜
GIG纯碳阵列微栅膜
该产品与C-FLAT类似：微孔尺寸相同、排列一致，支持膜纯净、无任何有机层（参考以下图片），国产中的精品
X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。
纯硅窗口Pure Silicon Windows
纯硅窗口Pure Silicon Windows
纯硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm，利用溅射沉积纯硅，允许对含氮和/或碳的样品进行元素分析。单晶纯硅具有<1-0-0>取向，制作35 nm的薄膜，用于衍射研究和其它需要从单晶薄膜中获得均匀的背景应用，。无孔硅薄膜轻微起皱，大约100微米间距有5微米或更少的偏转，这对于高分辨率成像来说通常是没有问题的。纳米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔，孔径一般在10-60纳米范围。
氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids
氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids
氮化硅TEM窗口在恶劣的实验室条件下表现良好，硅材料的框架100µm厚，适合标准的3mm支架和大多数双倾斜样品台，氮化硅窗口装在透明的凝胶盒中
方华膜（Formvar Film）
方华膜（Formvar Film）
单纯的一层方华树脂膜，厚度可以选择，标准厚度～10nm。如果需要其他厚度的方华膜，请来电咨询，还有可选厚度，5-6nm，15-20nm，25-50nm；载网的材质也可以选择，比如镍网、金网等等；载网的孔型也可以选择，比如方孔、六边孔，发现者载网等等
一氧化硅支持膜（Silicon Monoxide Film）
一氧化硅支持膜（Silicon Monoxide Film）
载网上附纯一氧化硅膜，膜大约15～30nm的厚度。还有一种是载网上先镀方华膜，方华膜上再稳定一层极薄的SiO膜，SiO膜较碳膜具有更高的亲水性。
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