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载网和支持膜 产品展示
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（阵列孔薄膜），3mm直径的外框架(其厚200um)，内有0.5*0.5mm大小的窗口！我们使用先进的MEMS技术，生产出的多孔氮化硅膜（微阵列孔膜），膜厚度200 nm，多孔膜区域达0.45*0.45mm大小，膜耐酸、碱和溶剂，耐受高温实验(高达1000°C)。
低温金属载网盒
低温金属载网盒
用于低温电镜的载网储存盒转运
mPrep™载网制样套装
mPrep™载网制样套装
mPrep™载网制样套装是由制样管、染色管及辅助工具组成，制样管用于样品固定、染色和包埋；染色管用于载网染色和存放载网。
载网冷冻干燥台（TEM Grid Freeze Drying Holder）
载网冷冻干燥台（TEM Grid Freeze Drying Holder）
电镜低温用品，承载电镜载网，可以容纳24个载网
载网样品盒（Grid Storage Box）
载网样品盒（Grid Storage Box）
每个盒可以存放100个3.05mm的TEM载网，并对存储格间进行数字/字母组合编码，便于记录和检索所存储的TEM样品
超薄连续碳膜
超薄连续碳膜
没有方华膜（Formvar）支撑，在蕾丝碳膜上镀一层更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄纯碳支持膜
GIG纯碳阵列微栅膜
GIG纯碳阵列微栅膜
该产品与C-FLAT类似：微孔尺寸相同、排列一致，支持膜纯净、无任何有机层（参考以下图片），国产中的精品
断层扫描铜网
断层扫描铜网
这种边长1.5mm、300目的方形铜网，用于Fischione断层扫描的标本支架。该铜网的尺寸允许其在制备好的TEM样品中进一步倾斜。旋转超过90°时，识别标记和方形的形状方便参考。
X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。
纯硅窗口Pure Silicon Windows
纯硅窗口Pure Silicon Windows
纯硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm，利用溅射沉积纯硅，允许对含氮和/或碳的样品进行元素分析。单晶纯硅具有<1-0-0>取向，制作35 nm的薄膜，用于衍射研究和其它需要从单晶薄膜中获得均匀的背景应用，。无孔硅薄膜轻微起皱，大约100微米间距有5微米或更少的偏转，这对于高分辨率成像来说通常是没有问题的。纳米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔，孔径一般在10-60纳米范围。
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